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장비명
전자현미경 정밀 전처리시스템 (PIPS)
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영문명
EM Preparation System
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모델명 |
Gatan 691 (Gatan) |
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원 리 |
1. Precision Ion Beam Milling System
-투과전자현미경 관찰이 가능한 상태로 시료 제작
2. Precision Etching Coating System
-FE-SEM, FE-TEM 관찰시료의 표면을 에칭하고 코팅
3. Advanced Plasma System
-시료 표면의 변화 없이 HydroCarbon 등의 오염물질을 제거
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주요성능 |
1. Precision Ion Beam Milling System
-Continuous Rotation 1 to 6 rpm
-Rotation Speed control for X TEM : up to 6rpm
-Ion Source is Penning type
-Beam Energy 1keV - 6keV
-Cooling Stage: -180℃~ +100℃
* Accessories
-Dimple Grinder
-Ultrasonic Disc cutter
-Disc Grinder
-Disc Punch
2. Precision Etching Coating System
-Three Ion Gun
-Beam Energy 1KeV -10KeV
-Driving Gas Ar
-Oil Free Pumping
-Etching and Coating
-360° rotation
-Target: Pt, Au-Pd, C, Cr
3. Advanced Plasma System
-2 stage variable Speed Diaghragm pump
-TEM/SEM chamber
-H2/O2 gas, Ar/O2 gas |
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용 도 |
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담당자 |
이수연 |
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담당자 연락처 |
031-201-3979 |
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위 치 |
공학관 162호 |
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사용요금 (외부는 2배적용)
| 내용 |
금액 |
단위 |
| 이온빔코팅(C,Pt, Cr, Au/Pd) |
5300 |
회 |
| 플라즈마크리닝 |
0 |
회 |
| 이온빔 밀링(표면) |
79000 |
시료 |
| 이온빔 밀링(단면) |
158000 |
시료 |
| 이온빔 밀링(직접사용/DuoPost제공안함) |
10600 |
시간 |
| LN2 |
5300 |
회 |
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기타사항 |
PIPS, Dimple Grinder, Ultrasonic Disc Cutter, Disc Grinder, Disc Punch, PECS, Plasma Cleaner |
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