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장비명
스핀디벨로퍼
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영문명
(Spin)Developer
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모델명 |
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원 리 |
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주요성능 |
* Work Size: 6" X 6"
* 방 식: 현상액(Develop)Spray 처리방식
* Work 고정방식: 진공흡착방식
* 건조 Air Knife Module 설치: Slit식 Air Knife로 건조
* 순환 Pump: Magnetic형 Seal less Pump
* Spray Nozzle: IKEUCHI 1/4MVP9010 PVDF
* Spray Pressure: Max 0.08MPa
* Filter: 현상액용 5.0um (제거율99.99%)
* 현상액 Tank용량: 단독순환 Tank 30L
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용 도 |
Glass 기판 혹은 silicon wafer 등의 thin film 위에 코팅/노광된 photo resist를 spray-puddle 방식으로 현상액을 이용하여 UV와 반응한 노광영역과 노광되지 않은 영역을 선택적으로 제거하고 rinse하는 장비이다 |
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보유부서 |
디스플레이 부품소재 지역혁신센터 |
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담당자 연락처 |
031-201-3295~3296 |
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사용요금 |
협의 후 결정 |
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기타사항 |
기타사항 : 홈페이지 시스템 상 장비예약 신청(www.ric-camid.re.kr)
장비관련 자료(http://core-aomd.khu.ac.kr) |
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