주요성능 |
반도체/Display 등의 공정 중에서 Wafer위에 PR이라는 Polymer 물질을 도포하여 Pattern의 원판 역할을 하는 Mask와 정렬을 한 후 자외선을 투과시켜 미세회로를 구현하는 장치
- Manual Control system
- Sample size : up to 6" wafer
- Mask size : up to 7" x 7"
- UV Exposure Light source with 350Watt Power Supply
- Dual CCD zoom microscope and LCD ( 17 inch ) monitor
- Dimension : 1000 (W) x 950 (D) x 800 (H) mm
- Weight : 250 Kg |
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