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장비명 플라즈마 화학기상 증착기
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영문명 PECVD/ALD
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모델명 |
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원 리 |
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주요성능 |
- Stage heater temp. : Max. 600℃
- Substrate size : 150 x 150mm
- Gas box : Liquid Source 용 2 Canister/1000cc
- 사용 Gas : NH3, O2, Ar, N2
- ALD Function 가능
- 박막형성물질 : SixNy, SiOx, SiNy, Al2O3 등
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용 도 |
TFT소자 제작을 위한 다양한 물질의 증착공정에 이용되며, 플렉시블 디스플레이의 기재필름인 다양한 플라스틱 재료의 Barrier막 코팅 공정 및 OLED 소자의 Encapsulation 성능 개선을 위한 공정에 이용된다. |
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보유부서 |
디스플레이 부품소재 지역혁신센터 |
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담당자 연락처 |
031-201-3295~3296 |
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사용요금 |
협의 후 결정 |
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기타사항 |
기타사항 : 홈페이지 시스템 상 장비예약 신청(www.ric-camid.re.kr) 장비관련 자료(http://core-aomd.khu.ac.kr) |
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