장비명 플라즈마 화학기상 증착기 영문명 PECVD/ALD      모델명 원 리 주요성능 - Stage heater temp. : Max. 600℃ - Substrate size : 150 x 150mm - Gas box : Liquid Source 용 2 Canister/1000cc - 사용 Gas : NH3, O2, Ar, N2 - ALD Function 가능 - 박막형성물질 : SixNy, SiOx, SiNy, Al2O3 등 용 도 TFT소자 제작을 위한 다양한 물질의 증착공정에 이용되며, 플렉시블 디스플레이의 기재필름인 다양한 플라스틱 재료의 Barrier막 코팅 공정 및 OLED 소자의 Encapsulation 성능 개선을 위한 공정에 이용된다. 보유부서 디스플레이 부품소재 지역혁신센터 담당자 tic@khu.ac.kr 담당자 연락처 031-201-3295~3296 사용요금 협의 후 결정 기타사항 기타사항 : 홈페이지 시스템 상 장비예약 신청(www.ric-camid.re.kr) 장비관련 자료(http://core-aomd.khu.ac.kr)